{"id":10908,"date":"2024-11-27T11:05:59","date_gmt":"2024-11-27T10:05:59","guid":{"rendered":"https:\/\/www.baikowski.com\/sapphire-polishing-superior-oxide-solutions-for-the-optics-electronics-semiconductor-industries\/"},"modified":"2025-12-23T14:55:34","modified_gmt":"2025-12-23T13:55:34","slug":"polissage-saphir-solutions-avancees-sph-pour-optique-electronique-horlogerie-semi-conducteurs","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.baikowski.com\/fr\/polissage-saphir-solutions-avancees-sph-pour-optique-electronique-horlogerie-semi-conducteurs\/","title":{"rendered":"Polissage saphir : solutions avanc\u00e9es d&rsquo;alumine et silice SPH"},"content":{"rendered":"<p><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-1739 alignleft\" src=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2019\/11\/shutterstock_461723545-300x200.jpg\" alt=\"Watch mechanism synthetic sapphire made with high purity alumina\" width=\"300\" height=\"200\" srcset=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2019\/11\/shutterstock_461723545-300x200.jpg 300w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2019\/11\/shutterstock_461723545-768x512.jpg 768w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2019\/11\/shutterstock_461723545-1024x683.jpg 1024w\" sizes=\"auto, (max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/><\/p>\n<p dir=\"auto\">Avec plus de 120 ans d&rsquo;expertise, Baikowski\u00ae est un fournisseur innovant qui proposent des mat\u00e9riaux \u00e0 la pointe de la technologie. A ses d\u00e9but, la soci\u00e9t\u00e9 produisait des saphirs synth\u00e9tiques avant de se recentrer sur les poudres, et notamment les solutions de polissage pour les besoins de l&rsquo;horlogerie, l&rsquo;optique, l&rsquo;\u00e9lectronique ou encore les semi-conducteurs.<\/p>\n<p dir=\"auto\">Gr\u00e2ce \u00e0 notre exp\u00e9rience, nos solutions d&rsquo;alumine et de silice collo\u00efdale sur-mesure, dont <strong>la morphologie, la distribution granulom\u00e9trique (PSD) et la composition sont optimis\u00e9es,<\/strong> satisfont des applications n\u00e9cessitant une grande qualit\u00e9 de finition et une efficacit\u00e9 accrue.<\/p>\n<p dir=\"auto\">Dans l&rsquo;\u00e9lectronique et l&rsquo;optique notamment, o\u00f9 la qualit\u00e9 du polissage du saphir est cruciale pour obtenir des dispositifs de haute performance, l&rsquo;utilisation des suspensions Baikowski\u00ae offrent des finitions de surface exemptes de d\u00e9fauts,\u00a0 garantissant notamment une transmission de la lumi\u00e8re et une clart\u00e9 de l&rsquo;image maximum.<\/p>\n<h2 dir=\"auto\">Les D\u00e9fis du Polissage du Saphir<\/h2>\n<p dir=\"auto\">Le polissage du saphir, l&rsquo;un des mat\u00e9riaux les plus durs\u00a0 apr\u00e8s le diamant, exige un traitement m\u00e9ticuleux et de haute pr\u00e9cision pour obtenir un surface impeccable. Les principaux d\u00e9fis sont les d\u00e9fauts de surface, les micro-rayures ou encore l&rsquo;\u00e9limination incompl\u00e8te des marques de meulage, qui affectent la clart\u00e9 optique et la finition de surface.<\/p>\n<p dir=\"auto\">Trois \u00e9tapes sont n\u00e9cessaires pour un r\u00e9sultat optimum : un meulage grossier du mat\u00e9riau initial, un polissage interm\u00e9diaire qui affine les irr\u00e9gularit\u00e9s de surface et un polissage final pour une \u00ab\u00a0surface miroir\u00a0\u00bb. Chaque \u00e9tape n\u00e9cessite un ma\u00eetrise parfaite afin d&rsquo;\u00e9viter d&rsquo;introduire de nouvelles imperfections.<\/p>\n<h2 dir=\"auto\">Axe C et Axe A : L&rsquo;impact de l&rsquo;orientation cristalline<\/h2>\n<p dir=\"auto\"><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-10079 alignleft\" src=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/sapphire-axis-300x225.png\" alt=\"Graph C and A xis of sapphire crystals\" width=\"300\" height=\"225\" srcset=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/sapphire-axis-300x225.png 300w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/sapphire-axis.png 322w\" sizes=\"auto, (max-width: 300px) 100vw, 300px\" \/>L&rsquo;orientation cristalline du saphir et la difficult\u00e9 de polissage sont \u00e9troitement li\u00e9es. <strong>L&rsquo;axe C (plan 0001)<\/strong> est l&rsquo;orientation la plus difficile \u00e0 polir, pr\u00e9sentant jusqu&rsquo;\u00e0 20 % de r\u00e9sistance suppl\u00e9mentaire et n\u00e9cessitant des suspensions sp\u00e9cialement formul\u00e9es pour obtenir une finition impeccable.<\/p>\n<p dir=\"auto\"><strong>L&rsquo;axe A (plan 11-20)<\/strong> est en principe plus facile \u00e0 polir, m\u00eame si ce travail reste rigoureux. Dans tous les cas, les suspensions doivent offrir une distribution granulom\u00e9trique des particules abrasives appropri\u00e9e, un pH adapt\u00e9 aux variations de duret\u00e9, et l&rsquo;obtention de r\u00e9sultats uniformes sur ces orientations.<\/p>\n<h2 dir=\"auto\">Les Suspensions SPH \u00e0 base de silice et d&rsquo;alumine : Une Productivit\u00e9 Optimis\u00e9e du Polissage Saphir<\/h2>\n<p dir=\"auto\">Baikowski\u00ae a d\u00e9velopp\u00e9 une s\u00e9rie CMP sp\u00e9cifique pour les substrats aussi durs que le saphir, dans laquelle la chimie joue un r\u00f4le majeur dans l&rsquo;obtention de surfaces impeccablement lisses avec des niveaux de pr\u00e9cision tr\u00e8s \u00e9lev\u00e9s. Cette gamme unique de suspensions brevet\u00e9es \u00e0 base d&rsquo;alumine ou de silice SPH permet d&rsquo;am\u00e9liorer la productivit\u00e9, en particulier sur les plans cristallins difficiles comme l&rsquo;axe C.<\/p>\n<p dir=\"auto\">Elle offre en effet <strong>des taux d&rsquo;\u00e9limination des mat\u00e9riaux 3 \u00e0 4 fois plus rapides<\/strong> que les suspensions traditionnelles de silice collo\u00efdale. De plus, elle permet une \u00e9limination uniforme des mat\u00e9riaux gr\u00e2ce \u00e0 :<\/p>\n<ul>\n<li dir=\"auto\"><strong>La morphologie contr\u00f4l\u00e9e et la PSD \u00e9troite<\/strong> de ce produit de polissage broy\u00e9 de Baikowski\u00ae. De telles suspensions minimisent le risque d&rsquo;introduire de nouvelles rayures tout en obtenant une \u00e9limination efficace de la mati\u00e8re, en particulier lors des \u00e9tapes de polissage interm\u00e9diaire et final.<\/li>\n<li dir=\"auto\"><strong>La stabilit\u00e9 de la suspension<\/strong>. Elle assure une \u00e9limination uniforme et maintient une bonne dispersion des particules tout au long du processus de polissage. La viscosit\u00e9 et le pH sont soigneusement \u00e9quilibr\u00e9s pour permettre une meilleure activit\u00e9 chimique de la suspension sur la surface du saphir et un processus de polissage plus rapide, faisant de la s\u00e9rie SPH une gamme id\u00e9ale pour les applications o\u00f9 la facilit\u00e9 d&rsquo;utilisation et la haute pr\u00e9cision sont indispensables.<\/li>\n<\/ul>\n<h2 dir=\"auto\">La s\u00e9rie SPH est disponible \u00e0 la fois en solutions abrasives de silice et d&rsquo;alumine.<\/h2>\n<ul>\n<li><strong>SPH-51<\/strong> est une solution de silice, dont les sp\u00e9cifications du D50 sont 100 nm et le pH de 10-11. Elle obtient <strong>des taux d&rsquo;\u00e9limination \u00e9lev\u00e9s sur les plans C et A<\/strong> du saphir, avec des finitions de surface quasi parfaites, en particulier lorsqu&rsquo;elle est combin\u00e9e avec le pad polyur\u00e9thane de Baikowski\u00ae.<\/li>\n<\/ul>\n<p><strong><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" class=\" wp-image-10081 alignleft\" src=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-removal-rate-300x166.png\" alt=\"SPH 51 removal rate graph comparison with traditional silica \" width=\"439\" height=\"243\" srcset=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-removal-rate-300x166.png 300w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-removal-rate.png 650w\" sizes=\"auto, (max-width: 439px) 100vw, 439px\" \/>Performance de la solution de silice SPH-51 (Plan A)<br \/>\n<\/strong>Conditions de polissage<strong><br \/>\n<\/strong><\/p>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 33.2363%; height: 131px;\" border=\"1\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 54.8132%; height: 24px;\"><strong>Machine<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 99.0145%; height: 24px;\">\u03c6 610 mm single side<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 54.8132%; height: 25px;\"><strong>Rotation de la plaque (tr\/min)<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 99.0145%; height: 25px;\">50<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 54.8132%; height: 24px;\"><strong>Force d&rsquo;appui (g\/cm\u00b2)<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 99.0145%; height: 24px;\">280<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 54.8132%; height: 24px;\"><strong>D\u00e9bit de suspension (ml\/min)<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 99.0145%; height: 24px;\">\u00a0100<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 54.8132%; height: 24px;\"><strong>Pi\u00e8ces<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 99.0145%; height: 24px;\">Saphir Plan A<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<p>Il en r\u00e9sulte une surface impeccable, pr\u00eate \u00e0 recevoir des couches \u00e9pitaxiales, ce qui garantira un rendement lumineux et une efficacit\u00e9 \u00e9nerg\u00e9tique optimum dans les applications LED par exemple.<\/p>\n<ul>\n<li><strong>\u00a0SPH-53<\/strong> est \u00e9galement une solution optimis\u00e9e \u00e0 base de silice avec <strong>un taux d&rsquo;\u00e9limination interm\u00e9diaire<\/strong> et des performances prouv\u00e9es par rapport \u00e0 la silice traditionnelle. Ses sp\u00e9cifications du D50 sont de 70 nm et son pH est compris entre 8 et 9.<\/li>\n<\/ul>\n<p><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" class=\"wp-image-10083 alignleft\" src=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-53-series-removal-rate-300x177.png\" alt=\"Comparison of SPH-51 &amp; SPH-53 (C PLANE 4\u2019\u2019)\" width=\"363\" height=\"214\" srcset=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-53-series-removal-rate-300x177.png 300w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH-51-53-series-removal-rate.png 611w\" sizes=\"auto, (max-width: 363px) 100vw, 363px\" \/><strong>Comparaison des solutions de silice SPH-51 et SPH-53 (Plan C 4&Prime;)<br \/>\n<\/strong>M\u00eames conditions de polissage que d\u00e9crites ci-dessus<\/p>\n<table style=\"border-collapse: collapse; width: 37.9067%; height: 119px;\" border=\"1\">\n<tbody>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 14.2683%; height: 24px;\"><strong>Produits<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 16.1378%; height: 24px;\">Silice traditionnelle<\/td>\n<td style=\"width: 12.0937%; height: 24px;\">SPH-51<\/td>\n<td style=\"width: 13.5518%; height: 24px;\">SPH-53<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 14.2683%; height: 24px;\"><strong>Temperature (\u00b0C)<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 16.1378%; height: 24px;\">36<\/td>\n<td style=\"width: 12.0937%; height: 24px;\">47<\/td>\n<td style=\"width: 13.5518%; height: 24px;\">35<\/td>\n<\/tr>\n<tr style=\"height: 24px;\">\n<td style=\"width: 14.2683%; height: 24px;\"><strong>Couples (%)<\/strong><\/td>\n<td style=\"width: 16.1378%; height: 24px;\">100<\/td>\n<td style=\"width: 12.0937%; height: 24px;\">139<\/td>\n<td style=\"width: 13.5518%; height: 24px;\">94<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<ul>\n<li><strong>SPH-9D<\/strong> est une suspension \u00e0 base d&rsquo;alumine dont le taux d&rsquo;\u00e9limination est tr\u00e8s \u00e9lev\u00e9, id\u00e9al pour l&rsquo;axe C. Elle \u00e9limine efficacement les irr\u00e9gularit\u00e9s de surface et offre un produit final de qualit\u00e9 sup\u00e9rieure. Ses sp\u00e9cifications pour D50 sont de 0,30 \u00b5m et elle a un pH compris ente\u00a0 12,5 et 13,5. Cette suspension peut \u00e9galement \u00eatre utilis\u00e9e dans des op\u00e9rations de polissage double face.<\/li>\n<\/ul>\n<p><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" class=\"size-medium wp-image-10085 alignleft\" src=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH9D-and-traditional-Silica-removal-rate-comparison-244x300.jpg\" alt=\"SPH9D and traditional Silica removal rate comparison graph\" width=\"244\" height=\"300\" srcset=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH9D-and-traditional-Silica-removal-rate-comparison-244x300.jpg 244w, https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/SPH9D-and-traditional-Silica-removal-rate-comparison.jpg 660w\" sizes=\"auto, (max-width: 244px) 100vw, 244px\" \/><\/p>\n<p>&nbsp;<\/p>\n<p><strong>COMPARAISON DES SUSPENSIONS \u00c0 BASE D&rsquo;ALUMINE<\/strong><br \/>\nRugosit\u00e9 de surface 0,2 nm &#8211; 0,35 nm<\/p>\n<p>L&rsquo;obtention de r\u00e9sultats de polissage optimaux n\u00e9cessite une bonne combinaison entre la vitesse de polissage, la pression exerc\u00e9e, la qualit\u00e9 du pad et la formulation de la suspension. Une pression plus \u00e9lev\u00e9es augmentent le taux d&rsquo;\u00e9limination du mat\u00e9riel mais peut produire des rayures, tandis que des vitesses plus lentes r\u00e9duisent en principe la formation de rayures mais\u00a0 prolongent le temps de traitement.<\/p>\n<p>En savoir plus sur\u00a0 <strong><a href=\"https:\/\/www.baikowski.com\/fr\/serie\/sph\/\">les suspensions SPH<\/a><\/strong><\/p>\n<p dir=\"auto\">En r\u00e9sum\u00e9, nos suspensions SPH \u00e0 base de silice et d&rsquo;alumine offrent une alternative sup\u00e9rieure en fournissant de meilleurs taux d&rsquo;\u00e9limination, une r\u00e9duction des d\u00e9fauts, une meilleure finition de surface et un contr\u00f4le accru du processus par rapport aux produits traditionnels \u00e0 base de silice. Cette gamme, combin\u00e9e aux pad de Baikowski<strong>\u00ae<\/strong>, est id\u00e9ale pour les applications de haute pr\u00e9cision dans les industries de l&rsquo;optique, de l&rsquo;\u00e9lectronique et des semi-conducteurs o\u00f9 la qualit\u00e9 de surface et la productivit\u00e9 sont toutes deux cruciales.<\/p>\n<p dir=\"auto\">Vous souhaitez en savoir plus sur <strong>l&rsquo;offre de solutions de polissage de Baikowski\u00ae<\/strong> ?<br \/>\nD\u00e9couvrez notre livre blanc d\u00e9di\u00e9, uniquement en anglais, intitul\u00e9 <strong><a href=\"https:\/\/www.baikowski.com\/wp-content\/uploads\/2024\/11\/Polishing-oxide-and-diamond-solutions-white-paper-2024.pdf\"> Superior Intermediate &amp; Final Polishing, Alumina, Silica, Ceria\u00a0 &amp; Diamond Solutions.<\/a><\/strong><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>Avec plus de 120 ans d&rsquo;expertise, Baikowski\u00ae est un fournisseur innovant qui proposent des mat\u00e9riaux \u00e0 la pointe de la technologie. 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